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Microscopio electrónico de transmisión de emisión de campo HF5000

Familia:
Microscopios TEM

TEM / STEM con corrección de aberración de 200 kV exclusivo de Hitachi: la armonía perfecta entre la resolución de imágenes y el rendimiento analítico

La resolución espacial de 0.078 nm en STEM se logra junto con una alta capacidad de inclinación de la muestra y detectores EDX de gran ángulo sólido, todo en una configuración de lente de objetivo único.

Características Principales:

  • Corrector de aberraciones esféricas de formación de sondas totalmente automatizado de Hitachi
  • Cañón de electrones FE frío de alto brillo y alta estabilidad (Cold FEG)
  • Columna y fuentes de alimentación ultraestables para un rendimiento mejorado del instrumento
  • Capacidad de generación de imágenes SEM y STEM con corrección de Cs simultáneas con resolución atómica
  • Nueva platina para muestras de entrada lateral de alta estabilidad y soportes para muestras
  • Detectores duales EDX * de 100 mm 2 simétricamente opuestos: "SDD dual simétrico * "
  • Recinto de nuevo diseño para un rendimiento óptimo en entornos de laboratorio reales
  • Una amplia gama de porta muestras avanzados de Hitachi *

*Opción

Frío FEG de alto brillo × Alta estabilidad × Corrector automático de aberraciones Hitachi

 El nuevo Cold FEG de alta estabilidad utiliza una versión completamente rediseñada de la tecnología de fuente de electrones de emisión de campo frío de larga data de Hitachi.

La estabilidad total del sistema también se ha optimizado para lograr imágenes por debajo de Å. La columna, las fuentes de alimentación y la platina para muestras se han diseñado recientemente para ofrecer la mejor estabilidad mecánica y eléctrica. La combinación de estas capacidades con el exclusivo corrector Cs de formación de sondas totalmente automatizado de Hitachi, que solo requiere un clic del mouse, garantiza que todos los usuarios puedan alcanzar el mejor rendimiento de manera rápida y sencilla.

Detectores duales EDX * de 100 mm 2 simétricamente opuestos: "SDD dual simétrico * "

La EDX de alta sensibilidad y alto rendimiento se logra con SDD duales de 100 mm 2 simétricamente opuestos.

La configuración SDD dual simétrica da como resultado una tasa de conteo casi constante cuando se inclina. En muestras cristalinas, la adquisición de EDX se puede realizar simplemente con el eje de la zona alineado, en comparación con la configuración de un solo detector.

El gran ángulo sólido también significa que el mapeo EDX se puede lograr incluso en muestras sensibles al haz y / o de bajo rendimiento de rayos X, incluido el mapeo de columnas atómicas. También se puede lograr EDX de alta resolución de píxeles con un amplio campo de visión, lo que proporciona grandes conjuntos de datos de alta resolución.

Imágenes SEM y STEM con corrección de Cs simultáneas

Se ofrecen imágenes SEM y STEM simultáneas como estándar, con detector SE tipo ET.

Esto permite la correlación de la información interna y de la superficie con información sobre la estructura 3D de la muestra, sin la necesidad de realizar una tomografía 3D.

Además, la imagen SEM con corrección de Cs ofrece una resolución espacial más alta con información de superficie más fiel

 

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Artículo Descripción
Fuente de electrones Fuente de electrones de emisión de campo frío W (310)
Voltaje acelerado 200 kV, 60 kV * 1
Resolución de imagen MADRE 0,078 nm (imagen ADF-STEM)
TEM 0.102 nm (imagen de celosía)
Aumento MADRE × 20 × 8.000.000
TEM × 100 ~ × 1,500,000
Etapa de la muestra Etapa de la muestra Goniómetro eucéntrico de 5 ejes
Tamaño de la muestra 3 mm Φ
Travesía de la muestra X, Y = ± 1,0 mm, Z = ± 0,4 mm
Inclinación de la muestra α = ± 25 °, β = ± 35 ° (portamuestras de doble inclinación Hitachi * 1 )
Corrector de aberraciones Corrector de aberraciones esféricas formadoras de sondas interno de Hitachi (equipo estándar)
Visualización de la imagen Monitor Panel LCD de 27 pulgadas de ancho (para monitor estándar y segundo monitor * 1 )
Cámara Cámara retráctil estándar Cámara de
pantalla * 1 (para ver pantallas fluorescentes)

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